摘要：光致抗蝕劑又稱光刻膠,是微電子加工過(guò)程中的關(guān)鍵材料。多面體低聚倍半硅氧烷(POSS)是一種具有規(guī)則的籠型結(jié)構(gòu)的聚合物增強(qiáng)材料,由POSS改性的聚合物實(shí)現(xiàn)了有機(jī)-無(wú)機(jī)納米雜化,POSS剛性結(jié)構(gòu)的引入阻礙了聚合物分子的運(yùn)動(dòng),可以顯著提高聚合物的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(T g),降低聚合物的介電常數(shù),提高聚合物的力學(xué)性能,也提高了含POSS光致抗蝕劑的耐蝕刻性?；谶@些優(yōu)點(diǎn),含POSS的光刻膠材料得到廣泛關(guān)注。本文對(duì)含POSS光刻膠的研究進(jìn)展作了簡(jiǎn)要介紹。
注：因版權(quán)方要求，不能公開全文，如需全文，請(qǐng)咨詢雜志社
