摘要：根據(jù)手工拋光多方向性的特點,提出一種三維類擺線拋光軌跡。為解決三維類擺線相交處拋光材料去除較多的問題,依據(jù)材料去除深度模型和軌跡相交的特點,確定擺線參數(shù)的控制范圍,在參數(shù)控制范圍內進行基于均勻材料去除的區(qū)域進給速度優(yōu)化,把去除深度相近的軌跡點視為一個區(qū)域,分區(qū)域控制拋光的進給速度,最終實現(xiàn)各區(qū)域內的材料去除深度基本相同。仿真和機器人拋光實驗結果表明,分區(qū)域規(guī)劃進給速度減少了軌跡相交處的材料去除,使得工件表面的去除深度總體上趨于一致,解決了因軌跡重疊導致的表面材料去除不均勻問題,提高了拋光件表面質量。
注：因版權方要求，不能公開全文，如需全文，請咨詢雜志社
