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熱壓印技術(shù)制作納米光柵

摘要:通過分析脫模過程的摩擦力,討論了模具表面處理工藝與壓模質(zhì)量的關(guān)系,給出了降低脫膜過程摩擦力的工藝方法。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,用類聚四氟乙烯膜作為脫模劑能大大減小模具表面與聚合物表面的摩擦力。研究了壓模、脫模工藝參數(shù)對實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響,基于HEX-02塑鑄系統(tǒng),真空條件下,在壓模溫度為195℃,模壓壓強(qiáng)為8MPa的環(huán)境下,利用熱壓印技術(shù)在PMMA薄膜上復(fù)制出周期為120nm的納米光柵。

關(guān)鍵詞:
  • 納米光柵  
  • 熱壓印技術(shù)  
  • pmma  
作者:
熊瑛 劉剛 田揚(yáng)超
單位:
中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)國家同步輻射實(shí)驗(yàn)室 合肥230029
刊名:
微細(xì)加工技術(shù)

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