摘要：超聲速冷卻氣膜是應用于高超聲速成像制導飛行器上的一項關鍵技術,靜壓比是影響超聲速冷卻氣膜流場發(fā)展的重要因素。為研究靜壓比對該流場的影響規(guī)律,在M6高超聲速風洞中采用基于納米粒子的平面激光散射技術,對不同靜壓比下的馬赫數3超聲速冷卻氣膜流場進行了實驗研究,獲得了流場的瞬態(tài)流動顯示圖像。通過瞬態(tài)流動顯示圖像分析,研究了高超聲速主流與超聲速噴流之間邊界面的發(fā)展過程;通過分形維數及間歇性分析,研究了靜壓比對湍流化程度的影響。結果表明在波系結構、噴流厚度及湍流化程度等方面,靜壓比對超聲速冷卻氣膜產生了明顯的影響:氣膜總體厚度和靜壓比正相關,欠壓狀態(tài)和匹配狀態(tài)氣膜厚度增長先慢后快,過壓狀態(tài)先快后慢;欠壓狀態(tài)和匹配狀態(tài)湍流破碎因子在流場前段普遍小于過壓狀態(tài),但其沿流向增長較快,最終壓力匹配狀態(tài)湍流破碎因子最大,湍流化程度最高。
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