摘要：掃描干涉光刻機(jī)移相鎖定是實(shí)現(xiàn)大面積高精度全息光柵曝光拼接的關(guān)鍵之一。為了實(shí)現(xiàn)大面積高精度全息光柵高精度曝光拼接,針對掃描干涉光刻機(jī)步進(jìn)掃描拼接軌跡,重點(diǎn)開展了移相鎖定系統(tǒng)的研究。在零差移頻式相位鎖定分系統(tǒng)和外差利特羅式光柵位移測量干涉儀的基礎(chǔ)上,闡述了掃描干涉光刻機(jī)的新型移相鎖定系統(tǒng)原理。針對新型的移相鎖定系統(tǒng)原理,構(gòu)建了移相鎖定控制系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)裝置。最后,基于移相鎖定控制實(shí)驗(yàn)裝置,針對移相鎖定定位性能,開展了移相鎖定定位控制實(shí)驗(yàn)以及影響控制精度的因素分析,實(shí)現(xiàn)了±3.27 nm(3σ,Λ=251 nm)的定位控制精度;針對移相跟蹤控制性能,在移相跟蹤控制精度實(shí)驗(yàn)分析的基礎(chǔ)上,利用陷阱濾波&PID控制實(shí)現(xiàn)了±4.17 nm(3σ,Λ=251 nm)的跟蹤控制精度。
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