摘要：電感耦合等離子發(fā)射光譜(ICP-OES)分析技術的日臻完善,以及電感耦合等離子發(fā)射光譜儀的普及,由此,電感耦合等離子發(fā)射光譜分析技術在化學分析領域得到大量的應用。電感耦合等離子發(fā)射光譜分析技術使得化學分析工作顯得更為快速和準確,在化學分析中節(jié)省較多的人力和時間。但是,電感耦合等離子發(fā)射光譜分析技術相當明顯的一個關鍵因素是光譜干擾。研究了用電感耦合等離發(fā)射光譜分析鋼材中光譜干擾的類型和排除方法。
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