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非晶銦鎵鋅氧化物薄膜晶體管的制備及其光敏特性研究

摘要:基于射頻磁控濺射法制備了以非晶銦鎵鋅氧化物(a-IGZO)作為有源層的底柵頂接觸式薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管(Thin Film Transistor,TFT),其長(zhǎng)/寬比為300μm/100μm。研究了該器件在無(wú)激光和在三種不同波長(zhǎng)激光照射下的光敏特性。實(shí)驗(yàn)表明,器件在波長(zhǎng)分別為660、450和405nm三種激光照射下的閾值電壓Vth分別為4.2、2.5和0V,均低于無(wú)激光時(shí)的4.3V,且器件的閾值電壓隨激光波長(zhǎng)減小單調(diào)降低,此外,隨著激光波長(zhǎng)的下降,'明/暗'電流比K由0.54上升到8.06(在VGS=6V且VDS=5V條件下),光敏響應(yīng)度R由0.33μA/mW上升到4.88μA/mW,可見(jiàn)激光波長(zhǎng)越短,可獲得更強(qiáng)的光電效應(yīng),光靈敏度也更高,該效應(yīng)表明該器件在光電探測(cè)等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。

關(guān)鍵詞:
  • 射頻磁控濺射  
  • 非晶銦鎵鋅氧化物  
  • 薄膜晶體管  
  • 光敏特性  
作者:
陸清茹; 李帆; 黃曉東
單位:
東南大學(xué)成賢學(xué)院電子與計(jì)算機(jī)工程學(xué)院; 南京210088; 東南大學(xué)毫米波國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 南京210096; 東南大學(xué)MEMS教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 南京210096
刊名:
半導(dǎo)體光電

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期刊名稱:半導(dǎo)體光電

半導(dǎo)體光電雜志緊跟學(xué)術(shù)前沿,緊貼讀者,國(guó)內(nèi)刊號(hào)為:50-1092/TN。堅(jiān)持指導(dǎo)性與實(shí)用性相結(jié)合的原則,創(chuàng)辦于1976年,雜志在全國(guó)同類期刊中發(fā)行數(shù)量名列前茅。